最先進的光刻機
全球最先進的EUV光刻機全球只有荷蘭的ASML生產，占據了光刻機市場高達80%的市場。Intel、臺積電、三星的光刻機都來自于與ASML。
最頂尖的光刻機不是荷蘭一個公司制造的，集合了許多國家最先進技術的技術支持，可以說是多個國家國家共同努力的結果，比如德國的光學鏡頭、美國的計量設備等。ASML將這些來自不同國家的3萬多個配件，分為13個系統，需要將誤差分散到13個系統，如果德國的光學設備做的不準、美國的光源不準，那么ASML瞬間就是失去了精神。
相較于荷蘭、德國、美國等這些國家，我國的芯片制造以及超精密度機械制造方面不具有優勢。再加上《瓦森納協定》的技術封鎖，因此，在高端光刻機領域，我國可以收仍然是空白。
我國的光刻機技術
上海微電子裝備有限公司（SMEE）是我國國內唯一能夠做光刻機的企業。上海微電已經量產的光刻機中，性能最好的是SSA600/200工藝，能夠達到90nm的制程工藝，相當于2004年奔四CPU的水平。因此，國內晶圓廠所需要的高端光刻機完全依賴進口。
目前，最先進的光刻機是ASML的極紫外光刻（EUV），用于7nm、5nm光刻技術，對于EUV光刻關鍵技術，國外進行了嚴重的技術封鎖。我國在2017年，多個科研單位合作經過7年的潛心鉆研，突破了EUV關鍵技術。根據相關資料披露，計劃2030年實現EUV光刻機國產化。
總之，在高端光刻機領域，我國的技術仍然比較薄弱。目前，中芯國際已經從ASML成功訂購了一臺7nm制程的EUV光刻機，希望能夠在高端芯片制造領域能夠找到“備胎”。
